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    本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种高硬度低吸收si3n4薄膜的制备方法。背景技术：随着红外技术的高速发展，红外制导武器的服役环境日益苛刻。红外窗口是红外热成像探测系统中的关键部件，位于红外成像系统的**前端。它是重要的结构/功能一体化部件，又是抗高速条件下的热力学冲击的薄弱环节。国外早在四十年代就开始了增透保护膜的研究和相关试验验证，但直到八十年代初国外才实现类金刚石保护膜(dlc膜)的沉积，试验表明保护膜对窗口表面的侵蚀耐受程度具有明显的提升。但dlc膜存在一定的吸收，在增透保护薄膜方面应用还存在一定的问题。而由于作无定形态的si3n4是一种重要的结构材料，它具有硬度高、弹性模量大，本身具有润滑性，表面摩擦系数小、耐磨损等特点，所以常被用作耐磨材料。同时它还具有耐高温、热膨胀系数小、导热系数大、抗热震性好，以及耐腐蚀、抗氧化等优点。所以si3n4薄膜在硬质保护薄膜方面具有很大的应用前景。目前，制作氮化硅薄膜可以用化学气相沉积(cvd)、物***相沉积(pvd)、离子束增强沉积(ibed)、电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术(ecr-pecvd)以及射频和微波的等离子化学气相沉积(rf-pcvd和mw-pcvd)等。济南操作性能好纳米彩钢隔热铝膜纳米彩钢铝膜有什么用途？

    而本发明的双面镀铝薄膜，在铝层厚度上即达到了多层镀铝的厚度，又避免了铝层不稳定的缺点。推荐的，步骤1)中，所述基材放卷为将基材薄膜按照真空镀铝所需的路径穿过各个导辊，进行连续均匀地放卷。推荐的，步骤1)中，所述基材薄膜为聚酯薄膜。推荐的，步骤1)中，所述基材薄膜为pet薄膜。推荐的，步骤2)中，捕集泵的温度控制在-150±5℃。这样既以利于抽真空，且可降低捕集泵的工作负荷，节能环保。步骤3)中，所述抽真空过程分为三级，先是由机械泵进行初抽，然后罗茨泵工作，当真空仓内的真空度达到10-2mbar扩散泵打开，由扩散泵进一步提高并维持真空仓内的高真空度，即10-4mbar，以满足蒸镀生产的需要。步骤4)中，蒸发舟加热分4个阶段，每个阶段用时，功率分别为20％、45％、60％、75％，同时，蒸发舟在***次加热时要比平时正常加热提高不超过1伏的电压，待正常蒸镀后再将电压降下来，这样可以增大蒸发舟的铝液铺展面积，提高蒸镀效率。本发明还提供一种保温用双面真空镀铝聚酯薄膜，采用如权利要求所述的保温用双面真空镀铝聚酯薄膜的制备方法制得。本发明与现有技术相比。

    待正常蒸镀后再将电压降下来；5)送铝丝；当放置在蒸发舟的舟槽内的铝丝融化后，开始调整每支舟的温度，直至将所有舟的温度调整到温度相差±℃以内(基本相同)后，若舟槽里的铝液已被蒸发掉，并同时进行步骤5)采用78～85％的正常送铝丝的速度，输入铝丝，直到铝液再次铺展整个舟槽(凹槽)，停止送铝丝，再调整每支舟的温度，待铝液可以被均匀的蒸发后，就可以进行下一步蒸镀操作；6)蒸镀；蒸镀时蒸发舟被固定在夹座上进行加热；正常生产时，蒸发舟的温度在1300～1400℃，并同时进行步骤5)将高纯度的铝线由输送电机连续送到蒸发舟上并被气化；7)冷却；冷却辊温度控制在0～5℃；8)测厚；通过连续非接触测量薄膜金属镀层厚度系统测定方阻值，并根据设定的方阻值，计算方阻值的偏高或偏低，并及时根据方阻值的偏高或偏低调整铝层厚度；9)收卷；调节收卷张力，使薄膜铺展平整，不滑边，不暴筋；10)重复步骤1)至步骤9)对一面镀铝完成后的基材薄膜的另一面进行真空镀铝；完成双面真空镀铝，得到所述保温用双面真空镀铝聚酯薄膜；其中，步骤10)中，重复步骤1)至步骤9)对一面镀铝完成后的基材薄膜的另一面进行真空镀铝，除当重复步骤7)时，冷却辊温度控制在-15±1℃。定陶做纳米彩钢铝膜比较好的厂家。

    但针对离子束溅射沉积技术制备si3n4薄膜还鲜有报道。综上所述，目前采用离子束溅射沉积技术制备si3n4薄膜还未见报道。技术实现要素：(一)要解决的技术问题本发明要解决的技术问题是：如何实现高硬度低吸收si3n4薄膜的制备。(二)技术方案为了解决上述技术问题，本发明提供了一种高硬度低吸收si3n4薄膜的制备方法，包括以下步骤：1)首先选择si靶作为离子束溅射靶材；2)其次采用离子束溅射沉积技术，在不同基底上制备si3n4薄膜；3)然后采用分光光度计和红外傅立叶光谱仪分别测量si3n4薄膜的透射光谱；4)基于透射光谱的反演方法，计算si3n4薄膜的折射率和消光系数；5)测量si3n4薄膜的硬度。推荐地，步骤1中，选择熔融石英和si基底作为si3n4薄膜的沉积。推荐地，步骤2在制备时，选择镀膜真空室本体真空度为m×10-6torr，1≤m≤50，真空室氮气流量x为10≤x≤50，辅助离子源氮气流量y为0～50sccm，主离子源工作参数为：工作电压u1为600v≤u1≤1500v，工作电流i1为200ma≤i1≤900ma；辅助离子源工作参数为：工作电压u2为150v≤u2≤600v，工作电流i2为100ma≤i2≤400ma，在熔融石英和si基底上制备si3n4薄膜。推荐地，步骤2在制备时，选择镀膜真空室本体真空度为4×10-6torr。徐州纳米彩钢隔热铝膜比较好的厂家。安徽纳米彩钢隔热铝膜找哪家

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    通过连续非接触测量薄膜金属镀层厚度系统测定方阻值，并根据设定的方阻值，计算方阻值的偏高或偏低，并及时根据方阻值的偏高或偏低调整铝层厚度；9)收卷；调节收卷张力，使薄膜铺展平整，不滑边，不暴筋；10)重复步骤1)至步骤9)对一面镀铝完成后的基材薄膜的另一面进行真空镀铝；完成双面真空镀铝，得到所述保温用双面真空镀铝聚酯薄膜；其中，步骤10)中，重复步骤1)至步骤9)对一面镀铝完成后的基材薄膜的另一面进行真空镀铝，除当重复步骤7)时，冷却辊温度控制在-15℃；以及当重复步骤9)时，需要下调张力，使重复步骤9)时的张力小于***次收卷时的张力；其余均相同；11)分切；薄膜下镀铝机后，立即进行分切。在本实施例中，步骤1)中，所述基材放卷为将基材薄膜按照真空镀铝所需的路径穿过各个导辊，进行连续均匀地放卷。在本实施例中，步骤1)中，所述基材薄膜为聚酯薄膜。在本实施例中，步骤2)中，捕集泵的温度控制在-150℃。在本实施例中，步骤3)中，所述抽真空过程分为三级，先是由机械泵进行初抽，然后罗茨泵工作，当真空仓内的真空度达到10-2mbar扩散泵打开，由扩散泵进一步提高并维持真空仓内的高真空度，即10-4mbar，以满足蒸镀生产的需要。在本实施例中。定陶区纳米彩钢隔热铝膜创造辉煌

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