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    在大批量油墨调配好后，首先在印花机上进行生产准备，先生产1米的小样进行确认所生产的产品的颜色是否符合要求，若不符合则进行生产工艺的调整。若符合则可进行大批量生产。(2)***次印花。将带有保护膜的基膜卷材放置于凹版印刷设备上，选择印花辊。调节张力和输出比例，张力为300-400n，张力为基膜卷材所受到的张力，需要根据所选用的基膜的厚度来调整张力的大小，以保证基膜在印花时表面平整，以免出现印花疵点。输出比例为300-450‰。打开凹版印刷设备上的电晕机和压辊开关，胶辊压在印花辊上，对基膜进行印花，烘干并成卷。同时品检员需要在生产线上对印花的品质进行监督把控。(3)***次复卷。将经过***次印花的基膜卷材在复卷机上剥离保护膜，使得保护膜和基膜分离并各自收卷，形成保护膜卷材和基膜卷材。在复卷之前设定复卷张力为200-250n，该复卷张力为在复卷机上基膜所受到的张力，根据基膜厚度的不同进行选择不同的张力大小，基膜越厚，则选择的张力愈大。在复卷时生产人员还要负责检测基膜膜面的印花品质，一边收卷一边检查。(4)第二次印花。将经过***次复卷所形成的基膜卷材放置于凹版印刷设备上对基膜的另一面进行印花。在此步骤中。曹县做纳米彩钢铝膜比较好的厂家。单县原装纳米彩钢隔热铝膜

    作为上述方案的进一步说明，所述的基膜为tpu膜或pu膜；所述的基膜的透湿量为400g/m2/24h-10000g/m2/24h。作为上述方案的进一步说明，所述的基膜的厚度为。作为上述方案的进一步说明，步骤(2)中，所述的胶辊的压力为5n。作为上述方案的进一步说明，步骤(6)中，印花定型的温度为35℃，时间为12小时。作为上述方案的进一步说明，步骤(1)还包括在油墨调配完成后，进行小样刮色测试。作为上述方案的进一步说明，步骤(1)中进行小样刮色后，还包括在凹版印刷设备上进行生产准备，先生产小样，确认后再进行批量生产。本发明的有益效果是：本发明所涉及双面印花膜生产工艺，通过调整印花时的基膜所受到的张力，能够较为简便批量的生产出具有两面印花的tpu或pu膜，且生产的tpu或pu膜具有较好的透湿性。为生产轻薄型具有两面具有隐性花纹的面料打下基础。具体实施方式下面结合具体实施例对本发明进一步说明。本发明所涉及的一种双面印花膜生产工艺，包括如下步骤：(1)配制油墨。油墨包括色粉、溶剂和pu树脂；按照设定的油墨各组份的比例配制油墨。在调配好油墨后，需要对油墨进行小样刮色的测试，测试所配制的油墨的颜色是否符合要求。只有在通过小样刮色测试后，方可大批量油墨配色。日照纳米彩钢隔热铝膜在线咨询济南生产纳米彩钢铝膜比较好的厂家。

    若第二次印花与***次印花时所使用的油墨不相同，则需要重新配制油墨。若需要重新配置油墨，则需要重新进行小样刮色测试以及上机后的小样试生产确认。若第二次印花与***次印花的花型不同，则在该步骤中选择不同的印花辊。在此步骤印花的基膜卷材无保护膜，则在第二次印花时，调节张力为150-200n。由于基膜卷材中没有保护膜，所以对于基膜所受到的张力较之前的张力设定要小，过大则有可能对基膜造成破坏。打开凹版印刷设备上的电晕机和压辊开关，胶辊压在印花辊上，对基膜进行印花，烘干并成卷。同时品检员亦需要在生产线上对印花的品质进行监督把控。(5)第二次复卷。将经过第二次印花所形成的两面具有花型的基膜置于复卷机上，调节复卷机的张力150-200n，并在复卷的同时加入保护膜，用于保护基膜膜面。复卷时生产人员还要负责检测基膜膜面的印花品质，一边收卷一边检查。(6)印花定型：将经过第二次复卷的卷材置入烘箱内进行印花定型，取出后重新包装。实施例一本实施例所涉及的双面印花膜生产工艺，首先从市场上购习tpu原膜卷材，卷材为一层tpu膜和一层pe保护膜卷绕而成。所选择的tpu膜的透湿量为400g/m2/24h，厚度为。对油墨进行调配。

    在进行抽真空之前先打开捕集泵，通过捕集泵将镀铝机的真空仓内的水分凝结为冰；3)抽真空；将镀铝机的真空仓内抽真空并维持真空度为10-4mbar；4)加热蒸发舟蒸发舟开始加热到正常蒸发这段时间原则上控制在16分钟。蒸发舟加热分4个阶段，每个阶段用时4分钟，功率分别为15％、40％、50、70％，同时，蒸发舟在***次加热时要比平时正常加热提高不超过1伏的电压，待正常蒸镀后再将电压降下来；5)送铝丝；当放置在蒸发舟的舟槽内的铝丝融化后，开始调整每支舟的温度，直至将所有舟的温度调整到温度相差±℃以内(基本相同)后，若舟槽里的铝液已被蒸发掉，并同时进行步骤5)采用85％的正常送铝丝的速度，输入铝丝，直到铝液再次铺展整个舟槽(凹槽)，停止送铝丝，再调整每支舟的温度，待铝液可以被均匀的蒸发后，就可以进行下一步蒸镀操作；6)蒸镀；蒸镀时蒸发舟被固定在夹座上进行加热；正常生产时，蒸发舟的温度在1400℃，并同时进行步骤5)将高纯度的铝线由输送电机连续送到蒸发舟上并被气化；7)冷却；冷却辊温度控制在5℃；8)测厚；通过连续非接触测量薄膜金属镀层厚度系统测定方阻值，并根据设定的方阻值，计算方阻值的偏高或偏低，并及时根据方阻值的偏高或偏低调整铝层厚度。青岛纳米彩钢铝膜生产厂家。

    通过连续非接触测量薄膜金属镀层厚度系统测定方阻值，并根据设定的方阻值，计算方阻值的偏高或偏低，并及时根据方阻值的偏高或偏低调整铝层厚度；9)收卷；调节收卷张力，使薄膜铺展平整，不滑边，不暴筋；10)重复步骤1)至步骤9)对一面镀铝完成后的基材薄膜的另一面进行真空镀铝；完成双面真空镀铝，得到所述保温用双面真空镀铝聚酯薄膜；其中，步骤10)中，重复步骤1)至步骤9)对一面镀铝完成后的基材薄膜的另一面进行真空镀铝，除当重复步骤7)时，冷却辊温度控制在-15℃；以及当重复步骤9)时，需要下调张力，使重复步骤9)时的张力小于***次收卷时的张力；其余均相同；11)分切；薄膜下镀铝机后，立即进行分切。在本实施例中，步骤1)中，所述基材放卷为将基材薄膜按照真空镀铝所需的路径穿过各个导辊，进行连续均匀地放卷。在本实施例中，步骤1)中，所述基材薄膜为聚酯薄膜。在本实施例中，步骤2)中，捕集泵的温度控制在-150℃。在本实施例中，步骤3)中，所述抽真空过程分为三级，先是由机械泵进行初抽，然后罗茨泵工作，当真空仓内的真空度达到10-2mbar扩散泵打开，由扩散泵进一步提高并维持真空仓内的高真空度，即10-4mbar，以满足蒸镀生产的需要。在本实施例中。金乡做纳米彩钢铝膜比较好的厂家。青岛高精度纳米彩钢隔热铝膜

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    但针对离子束溅射沉积技术制备si3n4薄膜还鲜有报道。综上所述，目前采用离子束溅射沉积技术制备si3n4薄膜还未见报道。技术实现要素：(一)要解决的技术问题本发明要解决的技术问题是：如何实现高硬度低吸收si3n4薄膜的制备。(二)技术方案为了解决上述技术问题，本发明提供了一种高硬度低吸收si3n4薄膜的制备方法，包括以下步骤：1)首先选择si靶作为离子束溅射靶材；2)其次采用离子束溅射沉积技术，在不同基底上制备si3n4薄膜；3)然后采用分光光度计和红外傅立叶光谱仪分别测量si3n4薄膜的透射光谱；4)基于透射光谱的反演方法，计算si3n4薄膜的折射率和消光系数；5)测量si3n4薄膜的硬度。推荐地，步骤1中，选择熔融石英和si基底作为si3n4薄膜的沉积。推荐地，步骤2在制备时，选择镀膜真空室本体真空度为m×10-6torr，1≤m≤50，真空室氮气流量x为10≤x≤50，辅助离子源氮气流量y为0～50sccm，主离子源工作参数为：工作电压u1为600v≤u1≤1500v，工作电流i1为200ma≤i1≤900ma；辅助离子源工作参数为：工作电压u2为150v≤u2≤600v，工作电流i2为100ma≤i2≤400ma，在熔融石英和si基底上制备si3n4薄膜。推荐地，步骤2在制备时，选择镀膜真空室本体真空度为4×10-6torr。单县原装纳米彩钢隔热铝膜

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