通用纳米彩钢隔热铝膜
通过连续非接触测量薄膜金属镀层厚度系统测定方阻值,并根据设定的方阻值,计算方阻值的偏高或偏低,并及时根据方阻值的偏高或偏低调整铝层厚度;9)收卷;调节收卷张力,使薄膜铺展平整,不滑边,不暴筋;10)重复步骤1)至步骤9)对一面镀铝完成后的基材薄膜的另一面进行真空镀铝;完成双面真空镀铝,得到所述保温用双面真空镀铝聚酯薄膜;其中,步骤10)中,重复步骤1)至步骤9)对一面镀铝完成后的基材薄膜的另一面进行真空镀铝,除当重复步骤7)时,冷却辊温度控制在-15℃;以及当重复步骤9)时,需要下调张力,使重复步骤9)时的张力小于***次收卷时的张力;其余均相同;11)分切;薄膜下镀铝机后,立即进行分切。在本实施例中,步骤1)中,所述基材放卷为将基材薄膜按照真空镀铝所需的路径穿过各个导辊,进行连续均匀地放卷。在本实施例中,步骤1)中,所述基材薄膜为聚酯薄膜。在本实施例中,步骤2)中,捕集泵的温度控制在-150℃。在本实施例中,步骤3)中,所述抽真空过程分为三级,先是由机械泵进行初抽,然后罗茨泵工作,当真空仓内的真空度达到10-2mbar扩散泵打开,由扩散泵进一步提高并维持真空仓内的高真空度,即10-4mbar,以满足蒸镀生产的需要。在本实施例中。纳米彩钢铝膜生产厂家。通用纳米彩钢隔热铝膜
4)加热蒸发舟蒸发舟开始加热到正常蒸发这段时间原则上控制在12~16分钟。蒸发舟加热分4个阶段,每个阶段用时3~4分钟,功率分别为0~40%、40%~50%、50%~70%、70%~80%,同时,蒸发舟在***次加热时要比平时正常加热提高不超过1伏的电压,待正常蒸镀后再将电压降下来,这样可以增大蒸发舟的铝液铺展面积,提高蒸镀效率。5)送铝丝;当放置在蒸发舟的舟槽内的铝丝融化后,开始调整每支舟的温度,直至将所有舟的温度调整到温度相差±℃以内(基本相同)后,若舟槽里的铝液已被蒸发掉,并同时进行步骤5)采用78~85%的正常送铝丝的速度,输入铝丝,直到铝液再次铺展整个舟槽(凹槽),停止送铝丝,再调整每支舟的温度,待铝液可以被均匀的蒸发后,就可以进行下一步蒸镀操作;6)蒸镀;蒸镀时蒸发舟被固定在夹座上进行加热;正常生产时,蒸发舟的温度在1300~1400℃,并同时进行步骤5)将高纯度的铝线由输送电机连续送到蒸发舟上并被气化。在蒸镀过程中,一定要注意控制蒸发舟的温度,过高或者过低都会严重影响蒸发舟的使用寿命。在蒸镀过程中用肉眼观察舟槽里的铝液铺展面积大小、铝液是否沸腾、通过观察窗发现镀铝的是否均匀性,来判断舟的温度是否过高或过滴。日照全新纳米彩钢隔热铝膜河南纳米彩钢隔热铝膜比较好的厂家。
为了实现附有氧化铝膜的壳体与盖帽之间的软接触,避免两硬质物体间的磨蹭,预先将盖帽的封口接触部位涂敷100μm左右锂离子电池密封胶。技术实现要素:本**公布了一种基于原位生成法制备硬质氧化铝膜在锂电池壳体绝缘密封中的应用。以原位生成法,先后在在铝质电池壳体表面生成了两层致密的氧化铝膜,并且此膜在壳体表面附着力强,不易脱落。在电池封口过程中,经此方法处理过的电池壳体能够以极大的强度与盖帽直接抱为一体,避免了绝缘胶圈的使用。原位生成的氧化铝膜介于壳体与盖帽之间充当绝缘层,相比于传统封口方式,本**中铝壳体与盖帽之间距离缩短为*一百多微米,**节省了电池内部空间,有利于提高电池能量密度,而且由于氧化铝层质地坚硬,可以保证电池封口的**度,有利于提高电池的长期稳定性。在本**实施过程中,为了实现氧化铝膜壳体与盖帽之间的软接触,避免两硬质物体间的磨蹭造成接触面间的划伤,预先将盖帽的封口接触部位涂敷100μm左右锂离子电池密封胶。具体实施方式本发明采用以下技术方案在锂电池壳体上基于原位生成法制备硬质氧化铝膜,步骤如下。(1)对铝质电池壳体的待加工部位进行预处理,处理流程包括。
纳米彩钢板隔热铝膜柔性版是凸版印刷的主力***于报刊、书籍、包装领域并呈不断发展的趋势,如纸箱印刷、包装纸板印刷、塑料印刷、金属箔片印刷、餐巾纸、卫生纸、面巾纸印刷等。凹版的优势是印刷质量高、颜色鲜艳、墨层厚实、画面层次清晰、耐印力高,但制版成本高、周期长。凹版印刷也被称为雕刻凹印。凹版的图文部分低于空白部分。凹陷程度跟图像的层次有关,即图像越暗,其深度越深,纳米彩钢板隔热铝膜订做印刷时,版面先涂布上油墨,用墨刀刮去。
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在大批量油墨调配好后,首先在印花机上进行生产准备,先生产1米的小样进行确认所生产的产品的颜色是否符合要求,若不符合则进行生产工艺的调整。若符合则可进行大批量生产。(2)***次印花。将带有保护膜的基膜卷材放置于凹版印刷设备上,选择印花辊。调节张力和输出比例,张力为300-400n,张力为基膜卷材所受到的张力,需要根据所选用的基膜的厚度来调整张力的大小,以保证基膜在印花时表面平整,以免出现印花疵点。输出比例为300-450‰。打开凹版印刷设备上的电晕机和压辊开关,胶辊压在印花辊上,对基膜进行印花,烘干并成卷。同时品检员需要在生产线上对印花的品质进行监督把控。(3)***次复卷。将经过***次印花的基膜卷材在复卷机上剥离保护膜,使得保护膜和基膜分离并各自收卷,形成保护膜卷材和基膜卷材。在复卷之前设定复卷张力为200-250n,该复卷张力为在复卷机上基膜所受到的张力,根据基膜厚度的不同进行选择不同的张力大小,基膜越厚,则选择的张力愈大。在复卷时生产人员还要负责检测基膜膜面的印花品质,一边收卷一边检查。(4)第二次印花。将经过***次复卷所形成的基膜卷材放置于凹版印刷设备上对基膜的另一面进行印花。在此步骤中。烟台纳米彩钢铝膜生产厂家。宣城纳米彩钢隔热铝膜厂家供货
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3)采用分光光度计测量石英基底上si3n4薄膜的可见光-近红外透过率曲线,采用红外傅立叶光谱仪测量si基底上si3n4薄膜的红外透过率曲线;4)采用基于透射光谱的光谱反演计算方法精确计算si3n4薄膜的折射率和消光系数;5)采用纳米压痕法测量石英基底上si3n4薄膜的硬度。下面以高硬度低吸收离子束溅射si3n4薄膜制备为实例,具体步骤如下:1)首先选择si靶作为离子束溅射沉积靶材,选择熔融石英和si基底作为si3n4薄膜的沉积;2)采用双离子束溅射沉积技术,制备si3n4薄膜工作示意图如图1所示。选择镀膜真空室本体真空度为4×10-6torr,真空室氮气流量x为30sccm,辅助离子源氮气流量y为30sccm,主离子源工作参数:工作电压u1为1000v,工作电流i1为450ma;辅助离子源工作参数:工作电压u2为300v,工作电流i2为200ma,在熔融石英和si基底上制备了si3n4薄膜,膜层厚度为300nm左右;3)采用lambda900分光光度计测量石英基底上si3n4薄膜的可见光-近红外透过率曲线,测量范围为300nm-2500nm,测量结果如图2所示;采用pe红外傅立叶光谱仪测量si基底上si3n4薄膜的红外透过率曲线,测量范围为2500nm-20000nm,测量结果如图3所示。通用纳米彩钢隔热铝膜
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