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    输出比例为300-450‰；打开凹版印刷设备上的电晕机和压辊开关，胶辊压在印花辊上，对基膜进行印花，烘干并成卷；(3)***次复卷：将经过***次印花的基膜卷材在复卷机上剥离保护膜，使得保护膜和基膜分离并各自收卷；在复卷之前设定复卷张力为200-250n；(4)第二次印花：将经过***次复卷所形成的基膜卷材放置于凹版印刷设备上对基膜的另一面进行印花；若第二次印花与***次印花时所使用的油墨不相同，则需要重新配制油墨；若第二次印花与***次印花的花型不同，则在该步骤中选择不同的印花辊；在此步骤印花的基膜卷材无保护膜，则在第二次印花时，调节张力为150-200n，打开凹版印刷设备上的电晕机和压辊开关，胶辊压在印花辊上，对基膜进行印花，烘干并成卷；(5)第二次复卷：将经过第二次印花所形成的两面具有花型的基膜置于复卷机上，调节复卷机的张力150-200n，并在复卷的同时加入保护膜，用于保护基膜膜面；(6)印花定型：将经过第二次复卷的卷材置入烘箱内进行印花定型，取出后重新包装。作为上述方案的进一步说明，步骤(1)中，色粉、溶剂和pu树脂的比例为2∶3∶5。作为上述方案的进一步说明，步骤(1)中，所述的色粉为金粉、印粉或珠光粉；所述的溶剂为乙酸乙酯。纳米彩钢铝膜有哪些种类。菏泽***纳米彩钢隔热铝膜

    1）制备加强纤维：将制备所用的高密度聚乙烯、低密度聚乙烯、乙烯-醋酸乙烯酯、二叔丁基过氧化己烷、马来酸二丁基锡和抗氧剂ca在100-110℃混合加热10-15min，然后压延切割，再碎成纤维絮状；（2）制备高伸缩量贴合层料：将低密度聚乙烯、二叔丁基过氧化己烷、马来酸二丁基锡和抗氧剂ca在90-100℃混合加热8-13min成熔融状，得到高伸缩量贴合层料；（3）制备低伸缩量贴合层料：将乙烯-醋酸乙烯酯、二叔丁基过氧化己烷、，马来酸二丁基锡和抗氧剂ca在80-90℃混合加热5-10min成熔融状，得到高伸缩量贴合层料；（4）制备过渡层料：将步骤1制得的产品与乙烯-醋酸乙烯酯、低密度聚乙烯、二叔丁基过氧化己烷、马来酸二丁基锡和抗氧剂ca在90-100℃混合加热5-10min成熔融状，得到过渡层料；（5）挤出成膜，将低伸缩量贴合层料、过渡层料以及高伸缩量贴合层料放入多层共挤挤出机吹塑成膜，制得成品。使用时，低伸缩量贴合层主要是乙烯-醋酸乙烯酯，乙烯-醋酸乙烯酯具有极好的粘性，可牢牢的与金属材料相连，高伸缩量贴合层主要材料为低密度聚乙烯，低密度聚乙烯具有极好的延展性与韧性，耐环境应力开裂性，适合与伸缩量较大的材料粘合。菏泽***纳米彩钢隔热铝膜菏泽做纳米彩钢铝膜的厂家。

    待正常蒸镀后再将电压降下来；5)送铝丝；当放置在蒸发舟的舟槽内的铝丝融化后，开始调整每支舟的温度，直至将所有舟的温度调整到温度相差±℃以内(基本相同)后，若舟槽里的铝液已被蒸发掉，并同时进行步骤5)采用78～85％的正常送铝丝的速度，输入铝丝，直到铝液再次铺展整个舟槽(凹槽)，停止送铝丝，再调整每支舟的温度，待铝液可以被均匀的蒸发后，就可以进行下一步蒸镀操作；6)蒸镀；蒸镀时蒸发舟被固定在夹座上进行加热；正常生产时，蒸发舟的温度在1300～1400℃，并同时进行步骤5)将高纯度的铝线由输送电机连续送到蒸发舟上并被气化；7)冷却；冷却辊温度控制在0～5℃；8)测厚；通过连续非接触测量薄膜金属镀层厚度系统测定方阻值，并根据设定的方阻值，计算方阻值的偏高或偏低，并及时根据方阻值的偏高或偏低调整铝层厚度；9)收卷；调节收卷张力，使薄膜铺展平整，不滑边，不暴筋；10)重复步骤1)至步骤9)对一面镀铝完成后的基材薄膜的另一面进行真空镀铝；完成双面真空镀铝，得到所述保温用双面真空镀铝聚酯薄膜；其中，步骤10)中，重复步骤1)至步骤9)对一面镀铝完成后的基材薄膜的另一面进行真空镀铝，除当重复步骤7)时，冷却辊温度控制在-15±1℃。

    本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种高硬度低吸收si3n4薄膜的制备方法。背景技术：随着红外技术的高速发展，红外制导武器的服役环境日益苛刻。红外窗口是红外热成像探测系统中的关键部件，位于红外成像系统的**前端。它是重要的结构/功能一体化部件，又是抗高速条件下的热力学冲击的薄弱环节。国外早在四十年代就开始了增透保护膜的研究和相关试验验证，但直到八十年代初国外才实现类金刚石保护膜(dlc膜)的沉积，试验表明保护膜对窗口表面的侵蚀耐受程度具有明显的提升。但dlc膜存在一定的吸收，在增透保护薄膜方面应用还存在一定的问题。而由于作无定形态的si3n4是一种重要的结构材料，它具有硬度高、弹性模量大，本身具有润滑性，表面摩擦系数小、耐磨损等特点，所以常被用作耐磨材料。同时它还具有耐高温、热膨胀系数小、导热系数大、抗热震性好，以及耐腐蚀、抗氧化等优点。所以si3n4薄膜在硬质保护薄膜方面具有很大的应用前景。目前，制作氮化硅薄膜可以用化学气相沉积(cvd)、物***相沉积(pvd)、离子束增强沉积(ibed)、电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术(ecr-pecvd)以及射频和微波的等离子化学气相沉积(rf-pcvd和mw-pcvd)等。成武做纳米彩钢铝膜比较好的厂家。

    在第二次印花时的张力控制在180n。第二次复卷时的张力控制在180n。实施例三本实施例所涉及的双面印花膜生产工艺，与实施例一的区别在于，所选择的为tpu膜，透湿量为10000g/m2/24h，厚度为。步骤(1)中，油墨的主要成分为珠光粉、乙酸乙酯，各组份的比例亦为2∶3∶5。***次印花的张力控制在300n，输出比例为300‰。***次复卷时的张力控制在1500n。第二次印花的油墨与花型均不相同，需要重新调配油墨和更换印花辊。此次油墨的主要成分为金粉、乙酸乙酯和pu树脂，配比为2∶3∶5。在第二次印花时的张力控制在150n。第二次复卷时的张力控制在150n。对三个实施例中所生产的成品膜进行测试，得到实施例二所生产的双面印花膜的膜面的平整程度比较好。以上详细描述了本发明的较佳具体实施例。应当理解，本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本发明的构思做出诸多修改和变化。因此，凡本技术领域中技术人员依本发明的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。济南生产纳米彩钢铝膜比较好的厂家。菏泽***纳米彩钢隔热铝膜

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    真空室氮气流量x为30sccm，辅助离子源氮气流量y为30sccm，主离子源工作参数：工作电压u1为1000v，工作电流i1为450ma；辅助离子源工作参数：工作电压u2为300v，工作电流i2为200ma，在熔融石英和si基底上制备si3n4薄膜。推荐地，在熔融石英和si基底上制备si3n4薄膜时，膜层厚度为300nm。推荐地，步骤3中，采用分光光度计测量石英基底上si3n4薄膜的可见光-近红外透过率曲线，测量范围为300nm-2500nm；采用红外傅立叶光谱仪测量si基底上si3n4薄膜的红外透过率曲线，测量范围为2500nm-20000nm。推荐地，步骤3中，采用lambda900分光光度计测量石英基底上si3n4薄膜的可见光-近红外透过率曲线。推荐地，步骤3中，采用pe红外傅立叶光谱仪测量si基底上si3n4薄膜的红外透过率曲线。推荐地，步骤5中，采用纳米压痕法测量石英基底上si3n4薄膜的硬度。。(三)有益效果本发明提供一种高硬度低吸收离子束溅射si3n4薄膜的制备方法，通过采用双离子束溅射沉积技术，通过改变主离子源和辅助离子源的工艺参数，以及真空室和辅助离子源通入氮气的流量，可实现高硬度低吸收si3n4薄膜的制备。结果表明，该方法将**提高si3n4薄膜的硬度和降低吸收损耗，作为**外层保护薄膜。菏泽***纳米彩钢隔热铝膜

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